LE PORTAIL D'INFORMATIONS MICROTECHNIQUES/LE SALON
27.05.2019
B - Equipements
Shadow Mask Aligner
Le Shadow Mask Aligner est conçu pour aligner avec précision les masques avec les substrats.
L'utilisation d'un masque d'ombre permet par exemple de réaliser un dépôt de couches minces sans lithographie. Une fois la plaquette alignée sous le masque, les deux substrats seront serrés dans un double mandrin. Le mandrin double serré avec des substrats peut ensuite être inséré dans la chambre PVD pour l'évaporation. Après le dépôt, le double mandrin sera séparé et les substrats pourront être retirés.
En savoir plus (en anglais).