LE PORTAIL D'INFORMATIONS MICROTECHNIQUES/LE SALON
04.07.2022
J - Entreprises de services
Machine de mesure de masques MM
L'appareil dispose de deux inféromètres à miroir plan qui permet de mesurer précisément la position actuelle à l'aide du système de mesure au laser.
Le rayon laser est positionné sur la hauteur du spécimen à contrôler et en même temps sur la ligne de mesure prolongée. Il saisit ainsi le mouvement relatif entre le microscope et le spécimen à contrôler avec une résolution nanométrique.
Le miroir plan avec son embase cinématique forme l'élément central de l'appareil. Un fichier de compensation reflétant la géométrie du miroir plan est déposé dans le logiciel. Cette méthode permet d'atteindre les plus hautes précisions.
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